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封装光刻胶
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封装光刻胶

所属分类: 半导体先进封装

ghi线曝光;;;;;
分辨率5μm~10μm;;;;;
覆盖高/低温固化PSPI;;;;;
膜厚5μm~15μm;;;;;
固化温度200℃~400℃;;;;;
具备优异的电学、力学机能和Cu附着力

产品详情

负性光敏DG5010/DG5020产品,,,,,,有优良的图形化能力,,,,,,通过高温交联和酰亚胺化后所得的聚酰亚胺膜拥有优异的耐热性、尺寸不变性、力学个性和耐化学性等。。。。。。??????捎米飨冉庾癰umping,,,,,,RDL工艺等的钝化绝缘层缓和冲层。。。。。。。

关键词:封装光刻胶

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