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抛光垫
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抛光垫

所属分类: CMP造程资料

抛光垫是横跨高分子化学、高分子物理、有机合成、液体力学、摩擦学、精密加工等多学科领域的技术密集型产品。。。。。。

产品详情

产品系列产品介绍
晶圆抛光硬垫抛光硬垫是化学机械抛光(CMP)工艺主题耗材,,,,, ,,其通过机械摩擦与化学侵蚀协同作用,,,,, ,,去除晶圆表表资料并实现纳米级平坦度。。。。。。
大硅片抛光垫/晶圆抛光软垫抛光软垫是化学机械抛光(CMP)工艺主题耗材,,,,, ,,重要用于精抛和终路抛光;;; ;;;;;相较于硬垫,,,,, ,,软垫拥有更好的表表适应性,,,,, ,,能削减划痕并提高光洁度。。。。。。
第三代半导体抛光垫第三代半导体抛光垫是化学机械抛光(CMP)工艺主题耗材,,,,, ,,通过化学侵蚀与机械研磨的协同作用,,,,, ,,去除晶圆表表资料并实现纳米级平坦度。。。。。。由于SiC和GaN硬度高(SiC莫氏硬度达9.5),,,,, ,,传统抛光垫难以满足需要,,,,, ,,因而选取特殊资料和结构设计,,,,, ,,以平衡硬杜纂柔韧性,,,,, ,,削减表表缺点。。。。。。

关键词:抛光垫

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抛光垫是横跨高分子化学、高分子物理、有机合成、液体力学、摩擦学、精密加工等多学科领域的技术密集型产品。。。。。。

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